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纳米位移台在真空环境下的表现，和在空气中相比往往是“明显不一样的”，而且这种变化既可能变好，也可能变差。 首先是摩擦和润滑变化。进入真空后，空气阻尼消失，运动阻力减小，高频响应有时会更干脆。但同时，普通润滑脂容易挥发或失效，摩擦系数反而变得不稳定，低速爬行、方向切换迟滞更容易出现。 其次是真空放气和...

纳米位移台在运动方向切换时出现延迟，通常不是控制器“反应慢”，而是系统在方向反转瞬间需要克服一系列物理和控制因素。 常见的是反向间隙和预紧释放。电机丝杆台、交叉滚子导轨等结构在正反向切换时，需要先消除间隙或重新建立预紧力，这段过程位移指令已经变化，但实际位置还没开始动，看起来就像有延迟。 摩擦特性变...

纳米位移台扫描轨迹弯曲时，要判断原因，核心是区分机械因素、控制因素和环境因素，不同品牌或类型的位移台表现差异很大，判断方法也略有不同。可以按下面几个方向分析。 1. 判断机械误差 手动或缓慢单轴运动测试：先让 X、Y 分别单轴运动一段固定距离，观察轨迹是否直。 弯曲沿固定方向重复出现，通常是导轨不平直、丝...

纳米位移台在做微小扫描时出现锯齿，一般不是单一原因造成的，而是机械、驱动和控制多方面因素叠加的结果。不同品牌、不同结构的纳米位移台在低速和小位移段的表现差异很大，使用前需要结合具体型号判断，选型和调校都要看好。 常见的是摩擦和爬行效应。在极小位移、低速运动时，静摩擦占主导，位移台会出现“停一下、跳...

在改变速度后位置发生偏移，通常不是“位置丢了”，而是速度变化引入了动态误差或控制状态变化，常见原因主要集中在下面几类。 首先是动态滞后和惯性效应。速度一变，加速度也随之变化，台体和负载会产生惯性力，控制器在瞬态阶段来不及完全补偿，停下来的位置就和原来不一致。速度越高、加速度越大，这种偏移越明显。 其...

纳米位移台按固定步长走，但和刻度对不上，通常不是“步长设错”，而是实际位移和指令位移之间存在系统性偏差，常见原因有这些。 常见的是开环误差或标定不准。控制器发出的步长只是理论值，如果位移台没有闭环反馈，丝杆传动误差、压电迟滞、驱动增益偏差都会让实际位移逐步偏离刻度。走得越多，累计误差越明显。 其次是...