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判断纳米位移台是否需要重新校准，通常可以从以下几个方面入手：
1. 定位精度出现下降
如果你发现以下现象，可能说明校准已经偏离标准：
位移台移动到某一预设坐标点后，实际位置偏差超出规格要求（比如超过纳米级误差容限）；
多次移动到同一点，重复定位的偏差变大；
扫描图像出现明显错位或畸变，尤其在大范围扫描或多次返回同一位置时。
2. 反馈位置与实际位置不符
当使用闭环传感器（如电容传感器、光学编码器）进行反馈控制时，如果控制软件显示的位置与显微镜、干涉仪等实际观测位置不一致，说明可能需要重新校准。
3. 环境或系统发生变化
下列情况发生后建议进行校准：
位移台长期未使用或经过长时间运行；
系统经历过搬运、震动、温度变化、潮湿等外界干扰；
更换了控制器、传感器或样品托盘；
固件或软件升级之后，位移模型发生变化。
4. 系统自检提示或误差累积
有些控制系统（如使用数字信号处理器的控制器）会在初始化或运行中提供自检误差报告或校准建议；
如果你运行定位路径后，累计误差随路径延长而变大，也可能是因为线性比例、偏移、非线性补偿失效，需要重新标定。
5. 定期维护计划中规定的周期
高精度位移系统一般建议定期校准（例如每半年或一年一次），尤其在对结果精度有严格要求的应用场景（如纳米定位、扫描成像、微纳加工等）中更为重要。