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纳米位移台在运动过程中，回差会对定位精度和重复性产生明显影响，其主要影响如下：
定位误差增加
回差导致位移台在前进和后退时同一目标位置出现偏差，即实际位置与期望位置不完全重合，降低定位精度。
重复性差
在需要多次移动到同一位置的实验或测量中，回差会使每次到达的实际位置不同，影响实验的可重复性和数据可靠性。
测量或加工误差累积
对于长行程或连续运动，回差会逐步累积，尤其在扫描或步进控制中，会造成累积误差，使最终定位偏离目标。
控制系统补偿困难
即使使用闭环控制，回差也会增加控制系统的负担，需要通过算法或前馈补偿来减小误差，否则高精度任务可能无法实现。
影响实验结果或加工质量
在纳米操作、精密定位、光学扫描或材料加工中，回差会导致实验数据偏差或加工图案畸变，直接影响结果可靠性。