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纳米位移台在低速运动时出现爬行，是精密运动中很典型的问题，通常表现为走走停停、不连续，看起来不像“匀速”。原因主要集中在以下几类。
首先是摩擦相关问题。低速时驱动力很小，容易反复卡在静摩擦和动摩擦之间，出现典型的粘滑效应。导轨、柔性结构或接触面摩擦不均匀，都会在低速下被放大，高速时反而不明显。
其次是驱动器和控制分辨率限制。电机或压电驱动在低速时，最小步进或最小电压变化已经接近系统分辨率，控制信号呈“台阶状”，位移就会一跳一跳。控制器内部的 DAC 精度不足，也会直接导致低速不连续。
再就是控制参数不合适。PID 增益偏低，系统在低速时纠偏能力不足，容易出现“推一下，停一下”的状态。如果积分或前馈设置不合理，低速跟踪时会反复修正，形成爬行。
压电位移台还常受材料本身特性影响。迟滞和蠕变在低速下非常明显，电压缓慢变化时，实际位移响应并不线性，导致运动不平滑。
环境和安装因素也会放大问题。线缆拖拽力、负载偏心、外部微振动，在低速阶段对位移台的影响远大于高速扫描，容易表现为爬行或抖动。
改善方法上，优先检查并减小摩擦源，确保导轨和结构状态良好。适当提高低速段的驱动裕量，避免长时间工作在静摩擦临界区。优化 PID 参数，增强低速跟踪能力。对压电台，启用迟滞补偿或闭环控制效果明显。同时注意线缆柔性和负载对称，减少外界干扰。